实验型真空镀膜机
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该设备适用于任意底色的塑料,陶瓷、树脂工艺品，玻璃等经真空镀膜后皆可镀成金、银、七彩、红、紫、蓝、灰、黑等多种鲜艳颜色，主要用于科研、教学、电子元件、及涂料生产等行业的表面表面镀膜。 -
该设备是利用真空磁控溅射镀膜方式，可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金属等材料表面镀制各种金属、非金属、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等，沉积的薄膜具有良好的均匀性、附着力，该设备具有溅射速率快、基片升温低、加热稳定等特点。 -
该设备运用脉冲激光镀膜(PLD)的薄膜沉积技术，通过脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。借着连续溶化混杂的靶，制造不同物质的多层膜，透过控制脉冲的数量，可以精密调节薄膜厚度至单原子层。 -
